Cr Sputtering Targets

Manufacturing Process:               Sprayed;                                                 HIP
Content:                                    Chromium                                           Chromium
Purity:                                    99.5%~99.8%                                    99.5%~99.95%
Relative Density:                          >95.0%                                                >99.0%
Grain Size:                                   <100um                                              <50um
Type:                                           Rotary                                 Rotary and Planar and Arc
Dimension:     Max Length 2000mm,Max Thickness 6mm    OD≤300 Max Length 2000mm